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光聲光譜痕量光氣分析儀

簡要描述:光聲光譜痕量光氣分析儀是基于超靈敏懸臂梁增強光聲光譜探測技術,結合量子級聯激光(QCL)光源,工作于光氣的中紅外基本光譜吸收峰。這兩者的結合提供了足夠的靈敏度可以幾乎無時延的探測最微小濃度的光氣泄漏,同時保證了超高水平的穩定性。重新校準的周期長達幾個月甚至幾年,大大減低了總體持有成本。

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品牌其他品牌產地類別國產
應用領域醫療衛生,環保,化工,生物產業,能源11

光聲光譜痕量光氣分析儀

檢測需求

       光氣是一種重要的有機中間體,在農藥、醫藥、工程塑料、聚氨酯材料內以及軍事上都有許多用途。光氣劇毒,是一種強刺激、窒息性氣體。吸入光氣引起肺水腫、肺炎等,具有致死危險。


技術應用

      光聲光譜痕量光氣分析儀是基于超靈敏懸臂梁增強光聲光譜探測技術,結合量子級聯激光(QCL)光源,工作于光氣的中紅外基本光譜吸收峰。這兩者的結合提供了足夠的靈敏度可以幾乎無時延的探測最微小濃度的光氣泄漏,同時保證了超高水平的穩定性。重新校準的周期長達幾個月甚至幾年,大大減低了總體持有成本。


光聲光譜痕量光氣分析儀特點

  • 高選擇性的監測痕量水平的光氣

  • ppb級別檢測下限(LoD)

  • 響應時間可設置,從5秒到3分鐘

  • 動態范圍寬,運行穩定

  • 無耗材

  • 低樣品量(幾ml)

  • 內置氣體交換系統

  • 重新校準間隔長(幾個月)

  • 直觀的用戶界面

  • 內置顯示屏,可數字式或者圖線式顯示結果

  • 可通過局域網遠程操作


 
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